哈尔滨工业大学激光干涉已成功，将光刻机工件台的位移分辨率提升15.4倍，这台干涉仪达到世界顶级DUV和EUV所需的共建台的位移精度，测量水平该技术不光解决了国产高端duv的问题，也解决了高端EUV的问题，原28纳米的国产DUV应用该技术后可逐步实现7纳米芯片生产，同时EUV光源样机也取得成功了并得到了中科院，前院长的肯定与激光干涉仪都是光刻机关键技术中的一部分。
本文由成都礼仪公司2023年5月8日编辑
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